真空纳米镀膜来电洽谈「拉奇纳米」

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

       真空镀膜技术的特点：

      1、镀覆材料广泛：可作为真空镀蒸发材料有几十种，包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样，加工出多层结构的复合膜，满足对涂层各种不同性能的需求。

      2、真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的。

      3、真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层。但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好。孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。

      4、环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。

       目前，薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而，随着集成电路的密集及微型化，精密机械的精度提升，对于镀膜厚度要求愈渐严苛。

PVD镀膜主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。PVD镀膜和传统化学电镀的区别：

相同点：两种都是属于表面处理，通过一定的方法使材料覆盖在另一种材料的表面上。

不同点：PVD镀膜的结合力更大，硬度更高，抗腐蚀性和耐磨性也更好，另外不会产生***的物质。

PVD镀膜技术主要应用的行业有哪些？

装饰方面：主要为了外观的光泽度和耐磨抗腐性。如卫浴五金、门锁、门窗五金等。

工具方面：主要是提高工具表面硬度，降低摩擦系数，延长使用寿命。如铣刀、钻头、车刀、螺丝刀、钳子等。