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真空镀膜加工是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

　20世纪70年代，在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上，因而这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。

真空镀膜加工都使用那些工艺

电镀：电镀一般分为很多类，今天我们特别来说两类Z常用而且反响较好的工艺   -----PVD镀膜和水电镀

真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，然后进入炉膛，检查接触是否良好，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品

       激光束蒸发源蒸镀法：

      采用激光束蒸发源的蒸镀技术是一种理想的涂层制备方法，是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种涂层制备技术，激光器置于真空室之外，高能量的激光束透过窗口进入真空室中，经透镜聚焦之后照射到靶材上，使之加热气化蒸发并沉积在基片上。

      优点：

      1、简化了真空室内部的空间布置，减少了加热源的放气，而且还可避免蒸发气对被镀材料的污染，达到了涂层纯洁的目的。

      2、激光加热可以达到极高的温度，利用激光束加热能够对某些合金或化合物进行快速蒸发。这对于保证涂层的成分，防止涂层的分馏或分解也是极其有用的。