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真空镀膜加工的基本技能要求

5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜资料的利用率，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。

6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。

7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。

8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有***非正常放电设备，维持作业稳定。

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1）环境温度：10-30oC  2）相对湿度：不大于75%   3）冷却水进水温度：不高于25oC   4）冷却水质：城市自来水或相当质量的水。   5）供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399V或198-231V；频率波动范围：49-51Hz。  6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。  7）设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

真空镀膜设备在工业生产中应用广泛，无论是大小产品、金属产品或塑料产品，还是陶瓷、芯片、线路板、玻璃等产品，基本上都需要进行表面处理镀膜。在涂料就方式而言，比较常见的是采用蒸发镀或磁控豺镀或离子镀。

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