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东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。因此，为了避免真空污染，设备零件的表面清洗处理是非常重要的。真空镀膜机设备表面处理有四种基本方法            

溶剂脱脂

附着在真空设备零件上的油可分为动植物油和矿物油。动植物油可用碱溶液化学法除去，矿物油可用除去。

然而，在实际的清洗设备中，通常使用两种溶剂。                                                                          

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分成蒸腾和溅射两种。需求镀膜的被称为基片，镀的资料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

　薄膜均匀性概念

　厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。 但是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要实现10A甚至1A的外表平整，详细操控因素下面会依据不同镀膜给出详细解释。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

气体不均匀性的影响

一般来说气体不均匀可以由两种情况产生，一种是送气不均匀，另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气，可认为是均匀抽气；而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气，属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气，真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时，气压从前到后逐渐减小，而后分子泵关只开前分子泵时，气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。

 PVD真空镀膜机器设备所镀制的渗氮错是一种淡***的膜层，适用一些氮化钛不太合适涂敷的行业。具备高耐腐蚀特性，优良的光洁表面及其可塑性。适用表面装饰膜层的PVD镀膜机器设备主要是运用在一些家庭装五金产品上，此外装饰艺术膜层一样也可以具有降低表面损坏、抵御表面浸蚀、增加商品使用寿命的***。   PVD真空镀膜机的正离子镀膜层不容易脱落、退色，表面不容易产生污渍，清洗简易，并且镀膜低成本。