麻涌真空镀膜设备批发来电垂询 拉奇纳米镀膜

空镀膜是真空应用领域，而光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺。

真空镀膜是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频、磁控等一系列新技术。光学镀膜是一种物理或化学方法，在材料表面涂上一层透明的电解质膜，或一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。

气体不均匀性的影响

一般来说气体不均匀可以由两种情况产生，一种是送气不均匀，另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气，可认为是均匀抽气；而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气，属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气，真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时，气压从前到后逐渐减小，而后分子泵关只开前分子泵时，气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。