麻涌化学气相沉积技术欢迎来电 拉奇纳米镀膜设备

一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。

真空镀膜加工是利用物理沉积作用将在上面涂附一层金属膜，具有比原有表面更耐磨、耐腐蚀等优于材料本身的性能，经过镀膜加工膜层使产品达到延长使用寿命，提高质量的效果。

真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。

真空镀膜工艺则有所不同，真空镀膜是真空罩内进行的但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的，真空镀膜发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)吸引下，真空镀膜以很高的速度注入到工件表面。

真空镀膜加工采用电镀工艺技术生产加工，性能稳定，使用时间长。多层电镀一多层电镀处理，防止生锈，提高抗腐蚀性增进美观度。电镀目的是使塑料表面披覆上金属,不但增加美观，为您制定的定制方案,更贴合您的产品特点。真空镀:浸泡镀、喷涂镀、过UV线，可电镀颜色有:金、银、黄、红、绿、蓝等多种效果。可根据自己的实际需求选择合适的工艺和材质。

真空镀膜加工中频磁控溅射

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

无论平衡还是不平衡，如果磁铁是静止的，其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率，可以采用旋转磁场。然而，旋转磁场需要一个旋转机构，并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，通常使用磁场静态目标源。