麻涌玻璃真空镀膜设备信赖推荐「在线咨询」

真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。真空镀膜技术的研究”，主要解决的是镀膜的工艺问题，包括电阻率、附着力、高温性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

真空电镀设备施涂性能良好。真空电镀设备流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。真空电镀设备与镀膜层要有良好的接触性能;真空电镀设备与底涂层要有一定的相溶性;真空电镀设备成膜性能与施涂性能优良;真空电镀设备具有适当的机械强度;真空电镀设备防潮、抗溶剂、耐真空电镀设备腐蚀性能好。抗老化性能强。

真空电镀设备对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，真空电镀设备热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。

真空镀膜机的原理

真空主体——真空室根据加工产品的要求差异，大小也不一。目前应用的真空室有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。燃烧室由不锈钢制成，不需要生锈、坚固等。真空室的所有部分都设有连接阀，用于连接各种泵。

辅助抽气系统：排气系统是真空镀膜机的重要组成部分，主要由机械泵、增压泵(主要引入罗茨泵)和油扩散泵组成。排气系统由“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。机械泵首先将真空室抽入小于2.0 * 10-2 pa 的低真空状态，为扩散泵的后续真空抽吸提供了前提，然后在扩散泵的真空室抽吸时，机械泵与油扩散泵串联，完成抽吸作用。