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真空镀膜是在真空中将金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,形成薄膜的一种表面处理过程。真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。真空镀膜加工膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。化学气相沉积技术

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。化学气相沉积技术

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品。

真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。后拓宽到别的作用塑料薄膜，装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。