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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。镀制效果有：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴、七彩等。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。主要分类有两个大种类:蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。

蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之知一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。简言之，蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法，把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

真空镀膜设备主要由真空腔、抽气系统、蒸发系统、成膜控制系统等组件构成。镀膜设备已经被广泛应用于光学、电子、玩具、建材、五金、钟表、汽车、民用装饰品等行业。制镀薄膜尤其广泛，其制作的各种薄膜被应用到各光电系统及光学仪器中，如数码相机、数码摄像机、望远镜、投影机、能量控制、光通讯、显示技术、微机电系统、信息工业、激光的制作、各种滤光片、照明工业、传感器、建筑玻璃、汽车工业、装饰品、钱币、眼镜片等等，镀膜机器已经与人类的生活紧密联系。由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此为了避免在真空镀膜设备中留下灰尘，应该在使用中注意以上几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。

材料经过真空镀膜机镀膜之前，都是要进行清洗的，也就是大家目前常说的真空清洗工艺，真空镀膜机真空清洗一般定义为在真空工艺进行前，先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。