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随着***制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜;数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜;充分展示和应用各种光学特性的光学膜;计算机显示用的感光膜;TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜;建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;包装领域用防护膜、阻隔膜;装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;工、模具表面上应用的耐磨超硬膜;纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。PVD是物***相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

真空镀膜的操作规程

1．在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应注意水压。

2．在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3．在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃用铅玻璃。

4．镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。

5．***物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。

8．工作完毕应断电、断水。

镀膜设备种类复杂，只需要按照大的工艺分常有的，比如蒸发、磁控溅射、离子等PVD镀膜技术，按没个镀膜加工企业要求不同又需要配置不同的设备和程序。

真空镀膜设备的多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的缺陷，而且各项技术指标优于传统工艺，广泛应用于五金加工、机械设备、化工、模具制造、电子产品、仪器等领域。

在选择真空镀膜设备时会考虑设备的各种性能特点，结合自身所镀产品的需要综合考核

根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

真空镀膜设备充气方式的选择。

根据工艺要求选择镀制方式及形式。

夹具运转形式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。